В основе разработки лежит отказ от классических схем расщепления луча, требующих громоздкой оптики и сложной системы затворов. Вместо этого команда под руководством Евгения Гиваргизова создала единую подложку с массивом независимых источников электронов. Такая архитектура не только кратно ускоряет экспонирование кремниевых пластин, но и снижает энергопотребление и требования к инфраструктуре оборудования.

Проект находится на стадии научно-исследовательских работ. Создание первого опытного образца литографа займет около трех лет. Технология проектируется как универсальная: она подходит как для зрелых техпроцессов с топологией 350 нм, так и для перспективных решений в несколько нанометров. Эксперты отрасли оценивают потенциал разработки положительно, однако указывают на значительный разрыв между лабораторным прототипом и промышленным внедрением. Успех проекта напрямую зависит от скорости перехода к этапу опытно-конструкторских работ и способности команды удержать темп в условиях быстро меняющегося мирового технологического ландшафта.